Sistema Confocal Sensofar S Neox Five Axis

Sistema de Solución de medición 3D completa S neox Five Axis

El perfilador óptico 3D S Neox de cinco ejes combina un módulo rotacional de alta precisión con las funciones avanzadas de inspección y análisis del perfilador óptico 3D de S neox. Esto permite realizar mediciones automáticas de superficies 3D en posiciones definidas que pueden combinarse para crear una medición volumétrica 3D completa.

TECNOLOGÍAS DE MEDICIÓN:
- Cubren una amplia gama de escalas: Las tecnologías de medición 3D de S Neox Five Axis cubren una amplia gama de escalas, incluida la forma, la rugosidad subnanométrica o las dimensiones críticas que requieren una alta resolución tanto lateral como vertical.
- Máxima versatilidad: El sistema de cinco ejes permite realizar mediciones automáticas de superficies 3D en posiciones definidas y combinarlas para crear una medición volumétrica 3D completa o para inspeccionar el acabado superficial en posiciones específicas alrededor de la muestra.
- Una medición 3D completa: S neox Five Axis puede medir la muestra en diferentes posiciones de rotación y elevación (perspectivas), generando un grupo de mediciones individuales. El software SensoFIVE fusiona todas las superficies proporcionando una superficie de la muestra con alta precisión utilizando la información de la imagen apilada de cada medición de superficie individual. El sistema puede proporcionar información sobre la forma en bordes afilados y/o superficies críticas mediante la fusión de diferentes elevaciones.

Este sistema permite unir superficies contiguas mediante la medición de ángulos superiores a 90°: La medición de superficies complejas que contienen ángulos pronunciados es muy difícil debido a los efectos de sombra que impiden obtener una medición completa en una sola adquisición. Es necesario inclinar la muestra para medirla desde dos posiciones diferentes y combinar los dos resultados de topografía para obtener la medición completa. La platina giratoria de cinco ejes permite colocar la muestra en direcciones opuestas para hacer visible toda la superficie. El perfilómetro óptico 3D adquirirá las mediciones individuales y, a continuación, las fusionará automáticamente para obtener la medición volumétrica 3D completa.

Tecnología 4 en 1:
- Ai Focus Variation: Active illumination Focus Variation del enfoque explora verticalmente la óptica (con una profundidad de campo muy baja) o la muestra para obtener un conjunto continuo de imágenes de la superficie. Un algoritmo determina qué puntos de cada fotograma están enfocados, y se construye una imagen completa utilizando todos los puntos enfocados de todos los fotogramas. Se ha mejorado con el uso de iluminación activa para obtener una localización del enfoque más fiable incluso en superficies ópticamente lisas.
-Confocal: La técnica de obtención de imágenes incluida en los microscopios confocales utiliza una abertura en el plano confocal del objetivo. De este modo se evita que la luz desenfocada entre en el sistema de imagen y sólo se captura el plano enfocado de la muestra. Se pueden capturar perfiles 2D e imágenes 3D de la superficie mediante el barrido mecánico o digital de la abertura.
-Interferometría: La interferometría óptica utiliza la diferencia de camino óptico entre la luz reflejada en los dos brazos del interferómetro (referencia y muestra) para obtener un patrón de interferencia espacial (interferogramas) que contiene información sobre la topología de la superficie de la muestra. Se pueden utilizar diversas variaciones del método para aplicaciones concretas.
-Thin Film: La técnica de medición de Thin Film mide el espesor de capas ópticamente transparentes de forma rápida, precisa, no destructiva y no requiere preparación de la muestra. El perfilómetro adquiere el espectro de reflectancia de la muestra en el rango visible, y se compara con un espectro simulado calculado por el software, con modificación del espesor de la capa hasta encontrar el mejor ajuste. Pueden medirse películas transparentes de 50 nm a 1,5 μm en menos de un segundo. El diámetro del punto de evaluación de la muestra depende del aumento del objetivo, que puede ser tan bajo como 0,5 μm y hasta 40 μm.